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使徒行者5个卧底分别是谁,使徒行者5个卧底分别是谁 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消(xiāo)息,国家知识产(chǎn)权局局长申长雨在新闻发(fā)布会上(shàng)表示,将统筹推进各类知识产(chǎn)权(quán)法律法规和制度(dù)规则的制修订工作。其中,修改(gǎi)完善(shàn)集成电(diàn)路布图设计保护条(tiáo)例(lì),适应大规模(mó)集成电路(lù)发展需要,助力芯(xīn)片产业(yè)做(zuò)大做强,服务数字经济更好发(fā)展(zhǎn)。

  加强大数据、人工(gōng)智(zhì)能、基因(yīn)技(jì)术(shù)等(děng)新(xīn)领域(yù)新(xīn)业态知识产使徒行者5个卧底分别是谁,使徒行者5个卧底分别是谁权规则(zé)研究,助力相关领域创新发展。同(tóng)时,积极参与知识产权(quán)国际(jì)规则制定(dìng),更好(hǎo)对接高(gāo)标准(zhǔn)国际经贸(mào)规则,助力高水平对外开放(fàng)。

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