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建军是哪一年

建军是哪一年 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家知(zhī)识产权(quán)局局(jú)长申长(zhǎng)雨在新闻(wén)发布会上(shàng)表示,将统筹推进各(gè)类(lèi)知识产权法(fǎ)律法(fǎ)规和(hé)制度规则的制修订工作。其(qí)中,修改完善集成电路(lù)布图设计(jì)保(bǎo)护条例,适应大(dà)规(guī)模集成(chéng)电路发展需(xū)要,助力芯(xīn)片(piàn)产(chǎn)业(yè)做(zuò)大做强,服务数字经(jīng)济更好(hǎo)发展。

  加强大数据、人工(gōng)智能、基因技术等新领域新(xīn)业态(tà建军是哪一年i)知识产(chǎn)权规则研(yán)究,助力相关领域创新发展。同(tóng)时,积极参(cān)与知识(shí)产权国(guó)际规(guī)则制定,更好(hǎo)对接高标准(zhǔn)国际经贸规(guī)则,助力高(gāo)水平对(duì)外开(kāi)放。

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